聚焦離子束（FIB）顯微鏡裝卸-搬運(yùn)我國(guó)發(fā)展半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，聚焦離子束（FIB）顯微鏡裝卸-搬運(yùn)觀察到光刻技術(shù)是繞不開的課題，以國(guó)內(nèi)目前薄弱的基礎(chǔ)，短期內(nèi)攻克EUV設(shè)備并不現(xiàn)實(shí)。對(duì)此，實(shí)?驗(yàn)?室?搬?遷?的Arthur指出，高性能光刻技術(shù)對(duì)中國(guó)企業(yè)來(lái)說(shuō)成本高昂，但是其戰(zhàn)略意義不容忽視。中國(guó)要推進(jìn)完整的光刻工業(yè)體系的發(fā)展，只能采取從低到高的策略，比如193nm深紫外ArF干式光刻機(jī)、浸沒(méi)式光刻機(jī)，以及周邊設(shè)備材料等，EUV是整套體系中困難的一塊。要實(shí)現(xiàn)強(qiáng)大的功能，EUV就***克服電能消耗以及光源等因素的影響?！敝袊?guó)電子科技集團(tuán)公司第四十五研究所集團(tuán)首席專家柳濱表示，EUV雖然售價(jià)超過(guò)了一億美元，但是高額的價(jià)格并不是問(wèn)題。

EUV的問(wèn)題是電能消耗。

其電能消耗是傳統(tǒng)193nm光刻機(jī)的10倍，因?yàn)闃O紫外光的波長(zhǎng)僅有13.5nm，投射到晶圓表面曝光的強(qiáng)度只有光進(jìn)入EUV設(shè)備光路系統(tǒng)前的2%。