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2020-12-05  來(lái)自: 亞瑟半導(dǎo)體設(shè)備安裝(上海)有限公司 瀏覽次數(shù):302

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中芯的第二代FinFET已進(jìn)入小量試產(chǎn)。科創(chuàng)板中芯在互動(dòng)平臺(tái)表示,公司FinFET14納米已于2019年四季度量產(chǎn);第二代FinFETN+1已進(jìn)入客戶導(dǎo)入階段,可望于2020年底小批量試產(chǎn)。此外,中芯方面還重申,目前公司營(yíng)運(yùn)和采購(gòu)如常。其實(shí)去年11月就曾有消息稱,中芯已經(jīng)啟動(dòng)了14nm FinFET工藝芯片的量產(chǎn)精?密?設(shè)?備?搬?運(yùn)?,且計(jì)劃2019年年底前進(jìn)行12nm FinFET的風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)。按照中芯當(dāng)時(shí)在2019年Q3季度財(cái)報(bào)公布的情況,公司FinFET已成功量產(chǎn),四季度將貢獻(xiàn)有意義的營(yíng)收;第二代FinFET研發(fā)穩(wěn)步推進(jìn),客戶導(dǎo)入進(jìn)展順利。12nm工藝相比14nm晶體管尺寸進(jìn)一步縮微,功耗降低20%、性能提升10%,錯(cuò)誤率降低20%。中芯2019第四季度財(cái)報(bào)會(huì)議上,梁孟松博士透露了中芯下一代“N+1”工藝的詳細(xì)數(shù)據(jù)。梁孟松博士透露,中芯的下一代N+1工藝和14nm相比,性能提升了20%,功耗降低了57%,邏輯面積縮小了63%,SoC面積減少了55%。所以在功率和穩(wěn)定性方面,N+1和7nm工藝非常相似,區(qū)別在于性能方面,N+1工藝的提升較小,市場(chǎng)基準(zhǔn)的性能提升應(yīng)該是35%。所以,中芯的N+1工藝是面向低功耗應(yīng)用領(lǐng)域的。前不久,中芯在互動(dòng)平臺(tái)上也表示,設(shè)?備?搬?運(yùn)?目前公司正常運(yùn)營(yíng),公司和美國(guó)相關(guān)政府部門等進(jìn)行了積極交流與溝通。公司客戶需求強(qiáng)勁,訂單飽滿,第三季度產(chǎn)能利用率接近滿載。展望2020年全年,公司的收入目標(biāo)上修為24%至26%的年增長(zhǎng)。全年毛利率目標(biāo)高于去年。恭喜中芯如需設(shè)備裝卸搬運(yùn)氣墊車運(yùn)輸請(qǐng)聯(lián)系亞瑟***1站式服務(wù)4000810031半?導(dǎo)?體?設(shè)?備?搬?運(yùn)?上海 上海實(shí)驗(yàn)室搬遷搬運(yùn)裝卸



運(yùn)營(yíng)項(xiàng)目

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